Halbleiter – Reinigen & Ätzen

Halbleiter – Reinigen & Ätzen

Reinigen – für saubere Oberflächen
DI-H2O · SC1: NH4OH:H2O:H2O · SC2: HCl:H2O2:H2O · DHF · BOE · Piranha: H2SO4:H2O2 · Acetone · IPA · HCl, HF, HNO3 , NH4F, NH4OH, H2O2, H2SO4 · Hot DI-H2O · Tenside · etc.

RAMGRABER bietet Ihnen Anlagen zur optimalen Waferreinigung. Ob manuell, halb-automatisch oder voll-automatisch – unsere Anlagen für Ihre Reinigungsprozesse entfernen organische und anorganische Verunreinigungen hervorragend.

Einen hohen Durchsatz und Ausführung in der bewährten RAMGRABER Qualität – das dürfen Sie von Anlagen aus unserem Hause erwarten.

Ätzen – für homogene, reproduzierbare Ätzergebnisse
H3PO4:HNO3:H2O · HF:HNO3:CH3COOH · HF:HNO3:H2O · HCl:HNO3 · TiWN · KOH · NaOH · TMAH · SC1 · SC2 · DHF · BOE · HF · Piranha · etc.

Ob als Beckenprozess oder als Sprühätzanlage – RAMGRABER Anlagen für Ätzprozesse aller Art zeichnen sich durch homogene, reproduzierbare Ätzergebnisse bei gleichzeitig geringem Medienverbrauch aus.

Auf Wunsch liefern wir Ihnen die Ätzanlage auch mit den erforderlichen Chemikalienver-/ entsorgungssystemen, so dass Sie mit RAMGRABER einen kompetenten Ansprechpartner für Ihr gesamtes Ätzsystem haben.